Concept: Galaxy S9 với thiết kế màn hình tràn cạnh tương tự như iPhone X

Chỉ vài ngày trước, một bằng sáng chế của Samsung đã lộ diện cho thấy một thiết kế smartphone giống với iPhone X, nhiều người cho rằng đó sẽ là Galaxy S9 và concept dưới đây sẽ phác thảo mẫu flagship này.
Mẫu concept Galaxy S9 vừa được concept-phones chia sẻ, concept này được xây dựng bởi DBS Designing. Galaxy S9 có thiết kế mặt trước khá giống với iPhone X, viền cạnh trên hình chữ U, bị khoét một phần vào để đặt các cảm biến và camera trước. Tuy nhiên các viền cạnh còn lại là biến mất hoàn toàn, rất ấn tượng.

Về cấu hình, Galaxy S9 chạy trên nền tảng Android 8.1, RAM 6 GB, bộ nhớ trong 128 GB, màn hình QHD+ với tỷ lệ đạt 18:9. Ngoài ra, Galaxy S9 cũng được tích hợp máy quét vân tay siêu âm dưới, một chi tiết mà iPhone X hay Galaxy Note 8, S8 chưa làm được.

Các chi tiết còn lại gồm: Pin 3.600 mAh, camera kép 18 MP mặt sau, máy ảnh 13 MP mặt trước. Ngoài ra, Galaxy S9 trong concept này có bộ khung vỏ bằng kim loại nguyên khối, trông chắc chắn và mạnh mẽ.


Xem thêm: Lộ bản vẽ thiết kế được cho là của Galaxy S9 và bất ngờ là nó giống với iPhone X?
ĐĂNG NHẬP
Hãy đăng nhập để comment, theo dõi các hồ sơ cá nhân và sử dụng dịch vụ nâng cao khác trên trang Tin Công Nghệ của
Thế Giới Di Động
Tất cả thông tin người dùng được bảo mật theo quy định của pháp luật Việt Nam. Khi bạn đăng nhập, bạn đồng ý với Các điều khoản sử dụng và Thoả thuận về cung cấp và sử dụng Mạng Xã Hội.